연구시설장비

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정보제공 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr)

마스크얼라이너

Mask aligner

DRIS No.	DRIS-19-0148
시설장비등록번호	NFEC-2017-11-240875
보유기관	대구경북과학기술원
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장비정보

모델명	MDA-400S	제작사	마이다스시스템(주)
취득일자	2017-11-03	취득금액	53,930,000원
5대 미래산업 분류	헬스케어	활용용도	시험
표준분류	기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 리소그래픽장비
장비위치	대구광역시 달성군 현풍면 테크노중앙대로 333 대구경북과학기술원　 E5 F1 미등록
장비설명	상기의 제안 공정의 실구현을 위한 초정밀 생산 시스템을 구축하고자 하는데 기존의 마이크로나노공전에 광범위하게 활용되고 있는 초정밀 마스크 얼라이너는 3차원 초미세 좌굴공정을 위한 기초시스템으로 최적의 장비이다. 본 연구에서는 초정밀 마스크 얼라이너를 기초 시스템으로 활용하여 3차원 초미세 과굴공정용 생산 시스템을 구축하고자 한다. 제안하는 생산시스템의 구성은 1) 초정밀 위치결정 구동시스템을 구축해 2차원 전도성박막 패턴을 기초 시편에서 탄성체로 옮기는 전달인쇄부 2) 자외선의 선택적 노광을 통해 화학적 공유결합을 국부적으로 부여하고 선택적인 기계적 좌굴을 일으켜 2차원 박막을 3차원 형상으로 변환하는 형상변환부 3) 칩 형태의 전자소자를 나선형전도체의 접합부에 위치시키고 전기 적으로 이어주는 회로구성부 4) 경화되지 않는 상태의 유연체를 주입하고 최종 경화시키는 전역매립부로 구성이 된다본 장비는 연구에서 제안하는 3차원 초미세 좌굴공정을 위한 연구환경을 구출을 하는 용도로 사용하고자 한다. 구체적으로
구성 및 기능	Y Z and Theta motion -Wedge Error Compensation System (leveling plate type) -Dimension: 1000(W) x 950(D) x 850(H)mm -Weight: 250kg -Warranty: 1 yearManual Align & 5.7 in. PC Control System -Sample size: Piece ~6in. Wafer -Mask Holder: Multi ~7in x 7in -UV Exposure Light source with 350Watt Power Supply -Dual CCD zoom microscope and LCD (17inch) monitor -Alignment Tooling Module with X
사용/활용예	2) 자외선의 선택적 노광을 통해 화학적 공유결합을 국부적으로 부여하고 선택적인 기계적 좌굴을 일으켜 2차원 박막을 3차원 형상으로 변환하는 형상변환부 3) 칩 형태의 전자소자를 나선형전도체의 접합부에 위치시키고 전기 적으로 이어주는 회로구성부 4) 경화되지 않는 상태의 유연체를 주입하고 최종 경화시키는 전역매립부로 구성이 된다. 상기와 같이 구축된 생산시스템을 활용하여 1) 3차원 초미세 좌굴공정의 거동모델의 실험적 증명 2) 3차원 나선형 전도선 제작 3) 초신축성 임베디드 시스템 구축전략 수립 4) 탄성한계 100%를 갖는 전자심장박막제작하고자 한다.제안하는 생산시스템의 구성은 1) 초정밀 위치결정 구동시스템을 구축해 2차원 전도성박막 패턴을 기초 시편에서 탄성체로 옮기는 전달인쇄부
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