연구시설장비

서브비주얼 배경이미지

정보제공 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr)

웻지형 초고진공 마그네트론 스퍼터링 시스템

Wedge Type UHV Magnetron Sputtering System

DRIS No.	DRIS-19-0102
시설장비등록번호	NFEC-2019-01-248206
보유기관	대구경북과학기술원
담당자
연락처
이메일

장비정보

모델명	PVSY-UHV-6	제작사	Pvt
취득일자	2018-10-16	취득금액	88,000,000원
5대 미래산업 분류	헬스케어	활용용도	시험
표준분류	기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 스퍼터
장비위치	대구광역시 달성군 현풍면 테크노중앙대로 333 대구경북과학기술원　 R3 F4 411
장비설명	초고진공하에서 박막의 두께를 조절하면서 증착 (Wedge Type Growth)하는 스퍼터링 시스템 + 고온 (800 oC)하에서 증착 및 열처리를 가능하게 해주는 시스템으로 Full Labview Control을 통한 어떤 종류의 다층박막도 증착이 가능함
구성 및 기능	Base Pressure : 5.0 x 10(-9) torr 6ea of sample (sputtering guns) Cryo Pump + Rotary Pump Wedge shutter unit Gas supply unit (Ar, N2) Vacuum valve unit DC Power supply for sputter gun Heater stage : 800도 (Max .Temp) Wedge shutter unit (stroke : 100nm)
사용/활용예	- 웻지형 타입으로 시료의 특정층의 두께를 변화시키기 때문에 두께별로 시료를 제작하지 않아도 되기 때문에 시료 제작의 속도를 획기적으로 단축시킬 수 있음 - 고온 및 여러 가지 종류의 플라즈마 생성용 가스를 넣은 상태에서 증착이 가능함.
이용안내
유의사항

이용료안내

담당자에게 문의하시기 바랍니다.