연구시설장비

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정보제공 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr)

다기능 직류형 이온밀링 시스템

Multifunctional DC ion milling system

DRIS No.	DRIS-19-0931
시설장비등록번호	NFEC-2022-01-275860
보유기관	대구경북과학기술원
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장비정보

모델명	모델명 없음	제작사	피브이티
취득일자	2021-12-27	취득금액	399,960,000원
5대 미래산업 분류	반도체	활용용도	시험
표준분류	기계가공/시험장비 > >
장비위치	대구광역시 달성군 현풍면 테크노중앙대로 333 50-1 대구경북과학기술원 중앙기기FAB지원센터 F2층 205호
장비설명	1. 장비설명 (100자 이상 기록 요망) ○ 6인치 웨이퍼 스케일에서 다중 박막 소자의 이온 밀링용(식각). ○ 고진공 챔버 내에서 Ar 불활성 가스의 이온을 이용한 물리적 식각. ○ 다양한 물질(금속/반도체/부도체)의 박막을 시료 각도(±50°)및 회전에 따라 식각. ○ RF방식의 Sputter를 활용한 부도체 및 산화물 박막 증착용(식각 및 증착을 한 챔버 내에서 수행). ○ 홀바 및 나노와이어 구조형성, 나노 혹은 마이크로 수준의 Pillar형성 등에 활용. ○ 시료 각도에 따른 식각 후 동시에 스퍼터링 공정 가능, 소자 표면의 오염 제거 등에 활용. ○ 특히, 금속(Au, Cu, W 등)박막을 건식 식각용으로 활용.
구성 및 기능	2. 구성 및 성능 (100자 이상 기록 요망) ○ Milling chamber : Material STS304, 5.0×10-9 torr(Base pressure), Ion milling source part, 2개의 sputter 공간, Source shutter, Sample stage, Pumping part(TMP 1500L/sec Dry sccrew pump 600L/min), Load-lock chamber 등으로 구성. ○ Load-lock system : Turbo molecular pump(80L/sec)&Dry scroll pump(200L/min), sample transfer unit ○ Ion source : Beam current(Max. 700mA), Beam voltage(100~1200V), Filament for neutralizer, Self aligned ion optics 16cm diameter pattern, Pneumatic shutter등 ○ Sputtering source : Target size(6인치), Water cooling system, 300W RF power supply&cable set ○ Milling stage : Sample size(6인치), Sample rotation 가능, Sample tilting(±50°), Sample cooling(water) ○ Gas supply unit : MFC 2ea(Ar, N2), gas manifolder ○ 기타 시스템 컨트롤러, 프레임, 악세서리 등
사용/활용예
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