연구시설장비
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정보제공 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr)
초단펄스다파장레이저
Ultra short pulse multiwavelength laser
| DRIS No. | DRIS-18-0314 |
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| 시설장비등록번호 | NFEC-2021-07-271829 |
| 보유기관 | 경북대학교 산학협력단 |
| 담당자 | |
| 연락처 | |
| 이메일 |
장비정보
| 모델명 | Trumicro 2030 | 제작사 | Trumpf |
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| 취득일자 | 2021-07-03 | 취득금액 | 174,624,800원 |
| 5대 미래산업 분류 | UAM,반도체,헬스케어 | 활용용도 | 시험 |
| 표준분류 | 광학/전자영상장비 > 광파발생/측정장비 > 레이저발생장비 | ||
| 장비위치 |
대구광역시 동구 동내로 70 첨단정보통신 융합산업기술원 레이저응용기술센터 B1층
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| 장비설명 |
- 비열가공 특성을 지닌 초단펄스 다파장 레이저 구축을 통한 국가 주력산업의 기술 고도화 지원
- 펨토초 다파장(1030nm/515nm/343nm)을 제공하고 펨토초/피코초 영역의 펄스폭 가변이 가능한 레이저 초정밀 가공지원을 통해 다양한 응용산업에서 신제품 개발 및 신규공정 개발지원이 가능한 초단펄스 다파장 레이저 시스템 - ㎚ ~ ㎛급 초미세 가공지원을 통한 Cutting, Drilling, Repair, Patterning 등 다양한 레이저 프로세싱 지원이 가능하도록 다파장 및 펄스폭 가변 동작의 신뢰성을 보증할 수 있는 장비 |
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| 구성 및 기능 |
1) Conversion Type : 1030nm IR based conversion to Green, UV
2) Pulse Duration : 400fs @ 1030nm 이하 3) Tunable Pulse Duration : 400fs ~ 20ps 3) Wavelength : 1030nm / 515nm / 343nm 포함 4) Pulse Duration switching time : 800m/s 이하 5) Average Power : 19.8W@1030nm, 8W@515nm, 3W@343nm 이상 6) Repetition Rate : Single shot to 1 MHz 이상 7) Average Power stability(peak-to-peak) : 2% 이하 8) Pulse-to-Pulse Energy stability(rms) : 2% 이하 9) Beam Quality : TEM00 (M2 < 1.2) 10) Beam Diameter : 5mm ±10% 이내 11) Include Switchable optical system for 1030nm, 515nm, 343nm 12) Include flexible pulse on demand mode/functions for pulse-to-pulse microprocessing control 13) Include Power Supply, Chiller, Control panel PC or Laptop PC & Monitor and RACK and/or accessaries |
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| 사용/활용예 | |||
| 이용안내 | |||
| 유의사항 | |||
이용료안내
| 담당자에게 문의하시기 바랍니다. |
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