연구시설장비

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정보제공 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr)

마스크 얼라이너

Mask Aligner

DRIS No. DRIS-1-0998
시설장비등록번호 NFEC-2021-04-270463
보유기관 경북대학교
담당자
연락처
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장비정보

모델명 MDA-400M 제작사 마이다스시스템(주)
취득일자 2021-04-19 취득금액 48,950,000원
5대 미래산업 분류 헬스케어 활용용도 시험
표준분류 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 리소그래픽장비
장비위치
대구광역시 북구 대학로 80 (산격동) 1370 경북대학교 공대3호관 F3층 308호
장비설명 Mask Aligner 는 Photo-lithography 공정에 사용되는 장비로서 패턴이 그려진 포토마스크와 기판을 정확하게 위치 정렬하는 기능을 가진 노광 장비이다.
해당 제품인 MDA-400M 은 합리적인 가격에 높은 성능을 발휘하는 매뉴얼 방식의 마스크 얼라이너로써, 조각부터 최대 4인치 시료까지 공정이 가능하고, 장비의 사이즈가 작고 간편한 조작이 특징이며, 주로 학교 연구실 용으로 적합하다.

Standard Feautres
- Mannual & Pneumatic Control system
- Sample size : piece ~ 4in wafer
- UV Exposure Light source with 350W Power Supply
구성 및 기능 1) Light source module
- lamp type : Mercury Shot arc lamp(350W)
- 365nm Beam intensity :> max 25mW/cm^2
- Wavelength : 350nm to 450nm(Standard)
- Max. beam size : 4.25inch x 4.25inch
- Beam Uniformity : < +-3%

2) Microscope
- Dual CCD zoom microscope
- Manual moving stage : Dual X,Y,Z axis
- Objective spacing : 60~100mm
- Move range : Y Axis +-20mm
- Magnification : 85x~540x
- Working distance : 86mm / 32mm

3) Stage and controller module
- Exposure Timer : 0.1 sec to 999.9 Hour
- Stage movement : X,Y,Z and Theta
- Contact mode : Vacuum, Hard, Soft Contact
- Alignment accuracy : <+-1.0 micron
- Vacuum / Pneumatic Controls : Substrate, Mask, Chuck lock & Contact

4) Resolution
- Vacuum Contact : 1 micro meter < Thin PR, @ Full size Si Wafer>
- Hard (Pressure) Contact : 2 micro meter
- Soft contact : 3 micro meter
- 20 micro meter Proximity : 5 micro meter

5) Utilities requirement
- Electric power : 220VAC / 15A / Single Phase with Ground
- Nitrogen :> 40PSI, 6mm Tube(PU)
- CDA :> 85.5 psi, 6mm Tube(PU)
- Vacuum :< -200 mbar (vacuum pump included)
- Exhaust : No required
사용/활용예
이용안내
유의사항

이용료안내

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