정보제공 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr)
Energy Dispersive X-ray Fluorescence Spectrometer
DRIS No. | DRIS-18-0003 |
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시설장비등록번호 | NFEC-2021-04-270141 |
보유기관 | 경북대학교 산학협력단 |
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이메일 |
모델명 | Elli-SEUN | 제작사 | 엘립소테크놀러지 |
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취득일자 | 2021-03-25 | 취득금액 | 146,412,000원 |
5대 미래산업 분류 | UAM,반도체,헬스케어 | 활용용도 | 시험 |
표준분류 | 광학/전자영상장비 > 광파발생/측정장비 > 타원계 | ||
장비위치 | |||
장비설명 |
본 장비는 다양한 기판 위에 올려진 박막 재료에 대하여, 재료의 두께 및 광학상수 등을 측정할 수 있는 장비이다. 즉 재료의 두께, 굴절율, 흡수계수 측정을 통해 재료의 특성 파악에 최적화 장비이며, 0.1nm의 두께를 측정할 수 있는 고정밀 장비이다.
특히 재료마다 에너지에 따른 흡수도가 다를 수 있어, 다양한 재료의 특성 연구에 맞는 자외선영역에서 부터 근 적외선 측정 파장영역(240nm ~ 1,700nm)을 사용하여 다양한 공정에서의 물질 및 재료를 정밀하게 분석할 수 있다. 또한, 원재료를 만든 장치(기계)가 재료의 특성에 영향을 줄 수 있는 관계로, 재료의 특징을 분석하여, 원재료 제조 장치의 성능까지도 유추해 판단할 수 있는 장비이다. |
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구성 및 기능 |
1. Spectroscopic Ellipsometer Unit
2. Specification - Tungsten halogen & Deuterium lamp (240 nm ~ 1,700 nm) - Collimating lens system - SMA type Fused silica optical fiber - λ/4 Retarder - Beam deviation ≤1 arc min - Optic system - Micro Stepping motor control - Wobble free cubic polarizer - Glan-Thompson Prism Polarizer - Collimating fused silica optic system - Beam Deviation : 3 arc minutes 3. Software - GUI for user - Operation & Analysis Software - Job selection / Job Editor - Measurement result / Status / Error history / Display - Initialization, Calibration, Measurement. - Automatic control & data collection - Data analysis : (n, k, λ) & Thickness - Simulation : (λ,Δ,ψ), (n, k, λ), etc. - Multi layer modeling 4. Application - Thickness of Dielectrics, Semiconductors, Polymers. - Supporting Backside/Front side Reflections. - Very Thin Films, Very Thick Films - Variable Substrates (Silicon, GaAs, Al, Steel, Glass, Al2O3, PC, PET, Polymer films etc.) - Semiconductor Si, SiC, Ge, ONO, ZnO, PR, poly-Si, GaN, GaAs, Si3N4 etc. - Display(incl. OLED) MgO, ITO, PR, Alq3 , CuPc, PVK, PAF, PEDT-PSS, NPB, SiO2 |
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사용/활용예 |
반도체, FPD, LED, Solar Cell,바이오등의 부품소재에 사용되는 박막의 두께 및 굴절율을 측정하기 위한 장비로서 광학적인방법으로 측정할 수 있는 Sub Å ~ 수 ㎛ 두께 범위의 단층 및 다층 박막의 두께, 굴절율을 측정 하는 장비이다.
빛의 편광상태를 제어, 측정하는 초정밀 metrology 장비로써 박막의 두께 및 굴절률, 물질의 조성비에 매우 민감하게 반응하여 원자 크기 이하의 두께 차이를 검출할 수 있는 sub Å의 정밀도를 갖는 첨단 광 계측장비이며, 넓은 파장대역에 걸친 스펙트럼 측정이 가능하므로 다층 박막의 구조 분석, 미지의 물질의 광물성 분석 및 높은 두께 정밀도 등의 장점을 가지고 있다. |
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이용안내 | |||
유의사항 |
담당자에게 문의하시기 바랍니다. |
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