연구시설장비

서브비주얼 배경이미지

정보제공 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr)

에너지분산형 X-ray 형광분석기 (ED-XRF)

Energy Dispersive X-ray Fluorescence Spectrometer

DRIS No. DRIS-18-0003
시설장비등록번호 NFEC-2021-04-270141
보유기관 경북대학교 산학협력단
담당자
연락처
이메일

장비정보

모델명 Elli-SEUN 제작사 엘립소테크놀러지
취득일자 2021-03-25 취득금액 146,412,000원
5대 미래산업 분류 UAM,반도체,헬스케어 활용용도 시험
표준분류 광학/전자영상장비 > 광파발생/측정장비 > 타원계
장비위치
대구광역시 북구 대학로 80 (산격동) 1370 경북대학교 반도체융합연구동 F1층
장비설명 본 장비는 다양한 기판 위에 올려진 박막 재료에 대하여, 재료의 두께 및 광학상수 등을 측정할 수 있는 장비이다. 즉 재료의 두께, 굴절율, 흡수계수 측정을 통해 재료의 특성 파악에 최적화 장비이며, 0.1nm의 두께를 측정할 수 있는 고정밀 장비이다.
특히 재료마다 에너지에 따른 흡수도가 다를 수 있어, 다양한 재료의 특성 연구에 맞는 자외선영역에서 부터 근 적외선 측정 파장영역(240nm ~ 1,700nm)을 사용하여 다양한 공정에서의 물질 및 재료를 정밀하게 분석할 수 있다. 또한, 원재료를 만든 장치(기계)가 재료의 특성에 영향을 줄 수 있는 관계로, 재료의 특징을 분석하여, 원재료 제조 장치의 성능까지도 유추해 판단할 수 있는 장비이다.
구성 및 기능 1. Spectroscopic Ellipsometer Unit
2. Specification
- Tungsten halogen & Deuterium lamp (240 nm ~ 1,700 nm)
- Collimating lens system
- SMA type Fused silica optical fiber
- λ/4 Retarder
- Beam deviation ≤1 arc min
- Optic system
- Micro Stepping motor control
- Wobble free cubic polarizer
- Glan-Thompson Prism Polarizer
- Collimating fused silica optic system
- Beam Deviation : 3 arc minutes
3. Software
- GUI for user
- Operation & Analysis Software
- Job selection / Job Editor
- Measurement result / Status / Error history / Display
- Initialization, Calibration, Measurement.
- Automatic control & data collection
- Data analysis : (n, k, λ) & Thickness
- Simulation : (λ,Δ,ψ), (n, k, λ), etc.
- Multi layer modeling
4. Application
- Thickness of Dielectrics, Semiconductors, Polymers.
- Supporting Backside/Front side Reflections.
- Very Thin Films, Very Thick Films
- Variable Substrates
(Silicon, GaAs, Al, Steel, Glass, Al2O3, PC, PET, Polymer films etc.)
- Semiconductor Si, SiC, Ge, ONO, ZnO, PR, poly-Si, GaN, GaAs, Si3N4 etc.
- Display(incl. OLED) MgO, ITO, PR, Alq3 , CuPc, PVK, PAF, PEDT-PSS, NPB, SiO2
사용/활용예 반도체, FPD, LED, Solar Cell,바이오등의 부품소재에 사용되는 박막의 두께 및 굴절율을 측정하기 위한 장비로서 광학적인방법으로 측정할 수 있는 Sub Å ~ 수 ㎛ 두께 범위의 단층 및 다층 박막의 두께, 굴절율을 측정 하는 장비이다.
빛의 편광상태를 제어, 측정하는 초정밀 metrology 장비로써 박막의 두께 및 굴절률, 물질의 조성비에 매우 민감하게 반응하여 원자 크기 이하의 두께 차이를 검출할 수 있는 sub Å의 정밀도를 갖는 첨단 광 계측장비이며, 넓은 파장대역에 걸친 스펙트럼 측정이 가능하므로 다층 박막의 구조 분석, 미지의 물질의 광물성 분석 및 높은 두께 정밀도 등의 장점을 가지고 있다.
이용안내
유의사항

이용료안내

담당자에게 문의하시기 바랍니다.