연구시설장비

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정보제공 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr)

습식세정장치

Manual Wet Station

DRIS No.	DRIS-1-0740
시설장비등록번호	NFEC-2007-07-002087
보유기관	경북대학교
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장비정보

모델명	모델명 없음	제작사	㈜트라이맥스
취득일자	2002-09-20	취득금액	72,270,000원
5대 미래산업 분류	헬스케어	활용용도	시험
표준분류	기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 식각장비
장비위치	대구광역시 북구 대학로 80 (산격동) 경북대학교 경북대학교 IT 3호관 B1 b06
장비설명	특징 - 특수한 반도체용 화공약품을 이용하여 웨이퍼의 세정 및 식각공정 수행
구성 및 기능	구성 및 성능 - 4인치 wafer 일괄공정 bath 구성(PR strip/develop/cleaning/etching bath) - Manual Wet Station(#1) Main Boddy Frame 1200 × 1000 × 2000 (SUS 304 Square Bar) Caster & Leveler 3" / SUS M20 Spray Gun(Flexible Coil 포함) N2 DIW Gun Exhaust Hood VP200 & Auto Damper Exhaust S/W & Gauge WO-81 / MS-61 Chemical Bath PTFE one Mold Strip Bath Inner Bath Inner Heater KOH Bath Acetone / Methano; Bath - Manual Wet Station(#2) Main Boddy Frame 1200 × 1000 × 2000 (SUS 304 Square Bar) Caster & Leveler 3" / SUS M20 Spray Gun(Flexible Coil 포함) N2 DIW Gun Exhaust Hood VP200 & Auto Damper Exhaust S/W & Gauge WO-81 / MS-61 Chemical Bath(H2SO4) Chemical Bath(HF) Chemical Bath(BHF) Rinse QDR Bath
사용/활용예	활용분야 - 웨이퍼 세정/습식식각
이용안내
유의사항

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