연구시설장비

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정보제공 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr)

플라즈마에칭장비

Refurbishiment Cluster etch tool

DRIS No.	DRIS-1-0728
시설장비등록번호	NFEC-2007-07-002038
보유기관	경북대학교
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장비정보

모델명	P5000 Mark II	제작사	Superior Plasma Technologies
취득일자	2007-05-31	취득금액	345,000,000원
5대 미래산업 분류	헬스케어	활용용도	시험
표준분류	기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 식각장비
장비위치	대구광역시 북구 대학로 80 (산격동) 1370 경북대학교 반도체연구동 B1 B106
장비설명	플라즈마를 이용한 웨이퍼상의 산화막 질화막 및 폴리실리콘의 건식식각공정 수행 Cluster type의 Mainframe에 Oxide/Nitride와 Poly-Si etch를 할 수 있는 장비
구성 및 기능	chamber system(Oxide/nitride Poly Si) / Oxide/Nitride etch chmaber : N2 O2 CF4 CHF3 He Ar/ Poly etch chamber : N2 O2 CF4 HBr SF6 Cl2 He Ar / whithn wafer uniformity:3%(SiO2Si3N4)5%(poly Si) Refurbishment P-5000 Mark 2 system Dry vacuum pump 3대 Fully-overhauled Chiller(Neslab HX-150) 4대 Wet Scrubber(BCL3 CL2 SF6 등 etchant gas) Utility 등
사용/활용예	소자제작 시 oxide nitride poly Si의 건식식각 공정에 활용할 수 있음
이용안내
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