연구시설장비

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정보제공 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr)

박막증착장비(TEOS)

LPCVD(TEOS) System

DRIS No. DRIS-1-0727
시설장비등록번호 NFEC-2007-07-002039
보유기관 경북대학교
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장비정보

모델명 DJ802V 제작사 Kokusai Electric
취득일자 2007-05-31 취득금액 275,000,000원
5대 미래산업 분류 헬스케어 활용용도 시험
표준분류 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 플라즈마기상화학증착장비
장비위치
대구광역시 북구 대학로 80 (산격동) 1370 경북대학교 반도체연구동 B1 B105
장비설명 TEOS 소스를 이용한 수직형 저압화학기상증착시스템
구성 및 기능 Wafer size:4~6“ / 용도:LP TEOS 산화막 증착 / 온도범위:750~1100℃ / Gas : N2 O2 TEOS 공급장치 / Temp. uniformity 0.1% / 4 znoe spike TC / profile TC
사용/활용예 Step coverage가 우수한 산화막의 증착공정에 이용
이용안내
유의사항

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