연구시설장비

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정보제공 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr)

열증착시스템 & Glove box

Thermal Evaporator Glove Box System

DRIS No. DRIS-TP-NC-0098
시설장비등록번호 NFEC-2007-10-000224
보유기관 대구테크노파크
담당자
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장비정보

모델명 EB 700s 제작사 (주)알파플러스
취득일자 2006-06-01 취득금액 254,922,800원
5대 미래산업 분류 해당없음 활용용도 시험
표준분류 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 열증착기
장비위치
대구광역시 달서구 성서공단로 46-17 (대천동) 891-5 대구테크노파크 나노융합실용화센터 F1 나노평가실
장비설명 금속 및 유기컴파운드 나노박막제조시스템
구성 및 기능 1.Process a. Process :Organic EL & metal deposition (In-situ process) -. Glove box : UV curing & Packaging -. Loading chamber : Substrate loading & pre-cleaning -. Evaporation chamber : Organic EL Metal deposition b. Substrate size : 100mm × 100mm c. Throughput : 1 substrate / 1 run 2.Hardware a. Control method : Manual control b. Chamber ultimate pressure -. Loading chamber : ≤ 7×10-7 Torr -. Evaporation chamber #1 : ≤ 5×10-7 Torr c. Effusion cell -. Crucible volume : 4~10cc -. Quantity : 3set -. Power supply : 200W d. Thermal source -. Tungsten boat -. Quantity : 2set -. Power supply : 2kW e. Thickness control : Crystal sensor

시스템구조: 글로브박스모듈 시료삽입챔버모듈 증착기챔버모듈 증착두께제어시스템 제어시스템모듈을 반드시 포함
글로브박스모듈: UV epoxy dispenser hot plate spin coater를 반드시 포함
증착기챔버모듈: 프로세스챔버 금속증발기 유기용매열 확산셀 vacuum unit gas unit 반드시 포함
시료최대크기: 100X100 mm X1장
증착기챔버진공도: ≤7X10-7 Torr (30min)
Thermal source: 2 sets
Effusion cell: 3 sets
증착두께 정밀도:≤±0.5 %
엑세서리: 규격서에 준함
사용/활용예 Metal(Al Au 등) 전극 증착
Alq3 pentacene 유기 단분자 물질 증착
이용안내
유의사항

이용료안내

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