연구시설장비

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정보제공 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr)

습식세정장치(2)

Wet Station

DRIS No.	DRIS-1-0634
시설장비등록번호	NFEC-2007-10-009805
보유기관	경북대학교
담당자
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장비정보

모델명	RN-A2	제작사	알오닉스
취득일자	2005-04-18	취득금액	60,000,000원
5대 미래산업 분류	헬스케어	활용용도	시험
표준분류	기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 트랙장비
장비위치	대구광역시 북구 대학로 80 (산격동) 1370 경북대학교 반도체연구동 B1 B106
장비설명	본 장비는 4" ~ 6" Wafer에 대하여 Chemical을 이용하여 Etching 및 Cleaning을 수행하는 습식세정장치 적용 Wafer : 4" ~ 6" Wafer 처리매수 : 1 Cassette (25 wafers) 처리방향 : Left -> Right BHF Bath : PTFE 10t - DHF Bath : PTFE 10t 용량 약 25 L Chemical Supply Manual Acid drain connection SPM Bath : PTFE 10t 용량 약 25 L Chemical Supply Manual Acid drain connection SC-1(1 set) / SC-2(1 set) bath : PTFE 10t 용량 약 25 L Chemical Supply Manual - QDR Bath(2 set) : 투명 PVC 10t Operation method : Touch Panel Control N2 Gun DI Gun(2 set) Control panel : Touch screen
구성 및 기능
사용/활용예	Wafer 식각 및 세정 가공
이용안내
유의사항

이용료안내

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