연구시설장비

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정보제공 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr)

전자빔진공증착기

E-beam Evaporator

DRIS No.	DRIS-1-0482
시설장비등록번호	NFEC-2011-11-150794
보유기관	경북대학교
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장비정보

모델명	모델명 없음	제작사	소로나
취득일자	2011-10-11	취득금액	200,000,000원
5대 미래산업 분류	헬스케어	활용용도	시험
표준분류	기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 플라즈마기상화학증착장비
장비위치	대구광역시 북구 대학로 80 (산격동) 경북대학교 경북대학교 IT 3호관 B1 b06
장비설명	금속 산화물등의 고융점 재료를 고에너지 전자빔 또는 저항가열을 이용하여 증발시켜 박막을 증착하는 장비
구성 및 기능	구성 - 공정 챔버 모듈 (Process Chamber Module) 8" Wafer 5매 동시증착(4 6 8") 0 ~ 60 rpm IR lamp heating 300 ℃ - 전자빔 소스 모듈(E-Beam Source Module) E-Beam power supply - 6KW STIH-270-2CK E-Beam source - Beam spot size 0.250" - 두께 측정 모듈 (Thickness Measure Module) Thickness monitor controller - Resolution(0.06Å/s) Thickness accuracy(0.5%) Oscillator package Thickness sensor - 진공 모듈 (Vacuum Module) - 가스 공급 모듈 (Gas Delivery Module) - 시스템 제어 모듈 (System Control Module) Uniformity - 균일도 = (max-min)/(2*average) - 9 points measurement @ 3000� deposition ≤± 5% 5mm edge exclusion @ Within wafer ≤± 5% 5mm edge exclusion @ Wafer to wafer ≤± 5% 5mm edge exclusion @ Batch to batch - Multi layer(6 layer 이상) step 별 균일도 5% 이내 - 금속 1um 이상 증착 후 lift-off 공정가능
사용/활용예
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