연구시설장비

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정보제공 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr)

포클열확산로 시스템

POCl3 diffusion furnace system

DRIS No.	DRIS-19-0657
시설장비등록번호	NFEC-2012-07-168043
보유기관	대구경북과학기술원
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장비정보

모델명	KVD206	제작사	케이에스엠
취득일자	2012-01-31	취득금액	434,227,040원
5대 미래산업 분류	헬스케어	활용용도	시험
표준분류	기계가공/시험장비 > 열유체장비 > 전기/소결로
장비위치	대구광역시 달성군 현풍면 테크노중앙대로 333 50-1 대구경북과학기술원 중앙기기센터 205 소자클린룸 F2 205
장비설명	각종 소자(센서 FET 등) 제작 시 n-type 불순물(P)을 열확산에 의해 주입 및 확산
구성 및 기능	* Wafer size : 4" ~ 6" * Two process chamber system - 1 chamber : POCL3 Doping - 2 chamber : High temp anneal * Auto loading system * 1 chamber(POCL3 doping) - Flat zone : > 400 mm - Film uniformity : ~4% Within Wafer ~4% Wafer to wafer - Using temp. : 700 ~ 1000 ℃ * 2 chamber(High temp anneal) - Flat zone : > 400 mm - Film uniformity : ~3% Within Wafer ~3% Wafer to wafer - Using temp. : 800 ~ 1100 ℃ * Wafer size : 100 ~ 300mm * Batch size : 20 ~ 150 mm * Wafer Loading : Auto/Manual
사용/활용예
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