정보제공 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr)
High Resolution Field Emission Scanning Electron Microscope
DRIS No. | DRIS-19-0591 |
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시설장비등록번호 | NFEC-2013-02-176204 |
보유기관 | 대구경북과학기술원 |
담당자 | |
연락처 | |
이메일 |
모델명 | SU8020 | 제작사 | Hitachi |
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취득일자 | 2012-03-19 | 취득금액 | 781,247,682원 |
5대 미래산업 분류 | 헬스케어 | 활용용도 | 시험 |
표준분류 | 광학/전자영상장비 > 현미경 > 주사전자현미경 | ||
장비위치 | |||
장비설명 |
1. High resolution field emission scanning electron microscope with cold or thermal cathode which should permit 1.3nm or better guaranteed resolution at 1kV and 1.0nm or better 2. This FE-SEM should be standard-equipped with the function for mixing the detection signals of the upper and lower secondary electron (SE BSE signal) detectors and for getting backscattered electron at the low accelerating voltage region which could require both surface detail and compositional information. 3. This FE-SEM should be provided effective database and convenient operation system for SEM/EDX combination system included the hardware/software by using a signal (or two) set of mouse and keyboard to cover both SEM and EDX PC. 4. This system can be possible for user to control lens mode at SEM so that high resolution condition & EDX analysis condition etc. could exchange without switching aperture openings. 5. To effective maintaining high clean vacuum system it is equipped magnetic floating type Turbo Molecular Pump and anti- |
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구성 및 기능 |
- Resolution : 1.0nm at 15kV 2nm at 1kV - Magnification : LM x20 ~ x2000 HM x100 ~ x800000 - Accelerate voltage : 0.5 ~ 30kV(0.1kV/step) - Detector : SE(Lower Upper) BSE EDS - Electrical image shift : 12 (WD=8mm) - Electron gun : cold cathode field emission electron source |
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사용/활용예 | 고진공 환경 하에서 전계방사형 source에서 방출되는 전자빔을 이용하여 시편의 표면 이미지를 고배율로 관찰하며 성분분석기를 이용 정성 및 정량 분석을 하는 표면 분석 장비임. | ||
이용안내 | |||
유의사항 |
담당자에게 문의하시기 바랍니다. |
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