연구시설장비

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정보제공 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr)

열 증착 시스템

Thermal evaporator system

DRIS No.	DRIS-19-0029
시설장비등록번호	NFEC-2020-06-263360
보유기관	대구경북과학기술원
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장비정보

모델명	Solar-Passage	제작사	대동하이텍
취득일자	2020-05-20	취득금액	55,530,000원
5대 미래산업 분류	헬스케어	활용용도	시험
표준분류	기계가공/시험장비 > >
장비위치	대구광역시 달성군 현풍면 테크노중앙대로 333 50-1 대구경북과학기술원 E6 F5층 520호
장비설명	1. 장비설명 (100자 이상 기록 요망) 다양한 전극 source를 타겟 디바이스에 열 증착하기 위한장비이다. 열 증착 시스템은 글러브 박스 내부에 설치되어 있어 샘플 로딩시 외부 공기와의 접촉을 최소화할 수 있다. 수분, 산소 등에 민감한 소재인 Perovksite, CQD 등을 외부 오염원 접촉없이 고성능 디바이스를 구현하게 한다. 전극 이외에도 Tandem cell 제작 시 active layer 사이에 intermediate layer 증착 목적으로도 사용이 가능하다.
구성 및 기능	2. 구성 및 성능 (100자 이상 기록 요망) ○ 진공 챔버 부 (Vacuum process chamber unit) - 재질 : SUS 304 & Al 6061 (직사각형) - 6 inch x 6 inch substrate process 대응 ○ 진공 펌프 부 (Vacuum pumping unit) - Turbo pump & controller : 1 set - High vacuum pumping line & valve (Pneumatic) : 1 set ○ 기판회전 부 (Substrate rotation unit) - Sample size : 6 inch x 6 inch sample, Random piece sample . Ferro seal feedthrough 사용 (Rotation speed : 0 ~ 30 RPM 조절가능) - Mask align jig & shadow mask 제공 . Magnet type (Mask 최소선폭 30㎛이하) ○ 진공 게이지 조절부 (Vacuum gauge control unit) - Wide range gauge sensor : 1 ea (신뢰성 있는 외산제품 사용) . Pressure reading range : ATM ~ 10-10 Torr - Convection or pirani gauge sensor : 3 ea . Reading range : ATM ~ 5 x 10-3 Torr ○ 증착제 및 전원 공급 장치 부 (Evaporation source & power supply unit) - Evaporation cell power supply : 2 sets - Low temperature cell source (Host & Dopant) : 4 sets . Rate control range : ≤ 0.1Å/sec, Manual control range : 0.02Å/sec) . Doping accuracy : ≤ 0.05% @ 0.5Å/sec Host . Doping ratio : 0.1% @ 0.5Å/sec Host . Inside water cooling type (Include crucible (Al2O3, PBN)
사용/활용예
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