연구시설장비

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정보제공 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr)

축소미세노광장비

I-line stepper

DRIS No.	DRIS-19-0243
시설장비등록번호	NFEC-2016-12-213596
보유기관	대구경북과학기술원
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장비정보

모델명	FPA-2500i2	제작사	Canon
취득일자	2016-12-06	취득금액	415,344,000원
5대 미래산업 분류	헬스케어	활용용도	시험
표준분류	기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 리소그래픽장비
장비위치	대구광역시 달성군 현풍면 테크노중앙대로 333 50-1 대구경북과학기술원 중앙기기센터 205 소자클린룸 F2 205
장비설명	본 장비는 반도체 소자, MEMS, 센서 제작공정의 미세소자 제작을 위한 um급 이하 크기의 패턴 공정을 하기 위한 기본적인 반도체 장비임. 축소 노광 원리를 이용하는 장비입니다.
구성 및 기능	○ Wafer size - 200mm, 100mm, 150mm wafer, SiC, Cr on Quartz ○ 사용가능 레티클 - 사이즈 : □6“ - 재질 : 석영 ○ 투영광학계 - 사이즈 : 6“ - 배율 : x 1/5 - NA : 0.54 - 화면사이즈 : 22mm - 인화광 : i선(365nm) - 기타 : 기압변화에 따른 배율보정기능 ○ 조명계 - 광원 : 1.5kW 초고압수은등 - 노광시간제어 : 적산노광계 - 마스킹기능 : 4장 독립 브레이드에 의한 가변 ○ 레티클 얼라이먼트 - 얼라이먼트광 : i선 - 방식 : I line 조명TV화상처리 성능 ○ min size : 0.5um급 line pattern ○ 노광 최대 영역 : 22mm(shot 기준)
사용/활용예	- MEMS, NEMS, NMOS, CMOS 관련 반도체 분야 적용 및 사용됨 - 광학계 소자, 필요한 분야에 적용됨 - 바이오 소자 필요한 분야에 적용됨 - 비접촉식 노광이 필요한 적용됨
이용안내
유의사항

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