연구시설장비

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정보제공 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr)

엑시머 레이저

Eximer laser

DRIS No.	DRIS-19-0218
시설장비등록번호	NFEC-2017-02-236050
보유기관	대구경북과학기술원
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장비정보

모델명	IPEX-766	제작사	Lightmachinery
취득일자	2016-12-21	취득금액	84,736,333원
5대 미래산업 분류	헬스케어	활용용도	시험
표준분류	광학/전자영상장비 > 광파발생/측정장비 > 레이저발생장비
장비위치	대구광역시 달성군 현풍면 테크노중앙대로 333 대구경북과학기술원 E2 E2 F2 517
장비설명	엑시머 레이저(Excimer Laser)란 레이저 매질에 희가스 및 할로겐 등의 혼합 가스를 이용하는 자외선(UV) 레이저로, 대표적인 예로 ArF 엑시머 레이저(파장 193nm), KrF엑시머 레이저(파장 248nm), XeCl 엑시머 레이저(파장 308nm), XeF 엑시머 레이저(파장 351nm)가 있습니다. 에피 산화물 이종구조의 제조를 위한 Pulsed laser deposition 방법에서, 엑시머레이저는 산화물 타겟을 플라즈마 상태로 만들기 위한 핵심적인 장비임.
구성 및 기능	○ Maximum pulse energy : 700 mJ ○ Maximum repetition rate : 50 Hz ○ Maximum average power : 30 W ○ Beam dimensions : 28×12 mm×mm ○ Beam divergence : 3×1 mm×mm ○ Pulse duration : 12-20 ns
사용/활용예	엑시머 레이저가 발하는 자외광이 가진 높은 광자 에너지와 매우 높은 첨두 전력은 대단히 매력적이므로 이 강력한 빛을 이용할 수 없는지 다양한 공업 분야에서 응용 연구가 진행되고 있습니다. CO2 레이저나 YAG 레이저로 대응할 수 없는 재료에 대한 마킹, 고분자 필름 및 반도체 박막 등의 어블레이션 가공, 테플론 등 수지의 표면 개질, 도핑 및 증착 등 반도체 제조 프로세스의 응용, TSV의 구멍 가공 등에 사용 합니다. 엑시머 레이저는 자외 영역의 레이저로는 예외적으로 고효율로 발진할 수 있고, 또한 장치를 비교적 소형화할 수 있는 특징이 있으므로 공업 및 의료(라식 등의 시력 교정 수술용) 등 다양한 분야에서 응용되고 있습니다.
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