연구시설장비

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정보제공 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr)

스퍼터링 시스템

Sputtering system

DRIS No.	DRIS-19-0209
시설장비등록번호	NFEC-2017-02-236336
보유기관	대구경북과학기술원
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장비정보

모델명	모델명 없음	제작사	대기하이텍
취득일자	2017-01-24	취득금액	71,530,000원
5대 미래산업 분류	헬스케어	활용용도	시험
표준분류	기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 스퍼터
장비위치	대구광역시 달성군 현풍면 테크노중앙대로 333 50-1 대구경북과학기술원 E5 F2 220
장비설명	본 장비는 미세 구조물의 금속 박막 코팅, 미세전극패턴 제작, 마이크로로봇의 금속 증착 등에 사용되는 장비이다. 플라즈마 환경에서 증착하고자 하는 물질을 물리적으로 미세하게 떼내어 기판에 물질을 증착 할 수 있다. 다양한 종류의 MEMS 소자용 금속 박막 증착, 의료용 마이크로로봇 및 미세 구조물, 센서, 엑츄에이터 제작에 필요하다.
구성 및 기능	1)Cathode Numbers ea 4inch : 3set (Tilt option for 6inch substrate) 2) Target Materials / Metal 3) Power Source set 1kW DC : 1set 4) Switching set Power Switching 1set ((DC to 3ea Cathode)) 5) 4inch tilted Magnetron cathode 6) Adjustable tilt angle by manual 7) TS adjust stroke >40mm,; TS 80~120mm 8) Target Materials: MetalBase 9) Pressure: 5.0×10-6 Torr within 1hour Ultimate pressure < 5×10-7 Torr 10) The value is after 24 hours or more evacuation Deposition Condition 11) Deposition method : down sputter type 12) Target size : 4 inch Diameter 13) Power supply : DC 1 Kwatt, 14) Film Thickness uniformity : 6inch wafer (Exclusion 5 mm Edge) 15) Uniformity (WIW, RTR) : ±5 % 16) ((Max-Min)/2)/aver * 100 = % 17) Measurement: step measurement, >200nm thickness of metal film
사용/활용예	본 장비는 로봇공학전공 내의 마이크로/나노 관련 연구를 위하여 공동으로 활용될 예정이다. 구체적인 장비 사용목적의 예로는 인체 삽입 가능한 신경 전극 어레이 제작, 초음파 트랜스듀스 제작, 유연 전극 어레이 제작, 다양한 센서 제작 등에 활용 된다. 본 장비는 전공의 공동연구뿐만 아니라 로봇공학전공에서 개설되는 마이크로/나노 공학 및 의용생체공학, 생체모사공학 등의 수업에서 이론과 더불어 실습을 목적으로 사용되며, 로봇공학전공 학생들의 마이크로/나노 공정 기술 교육에도 적극 활용 된다.
이용안내
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