연구시설장비

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정보제공 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr)

고출력 고반복률 펨토초 레이저

High power High repetition rate Femto second Laser

DRIS No.	DRIS-18-0146
시설장비등록번호	NFEC-2017-05-237929
보유기관	경북대학교 산학협력단
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장비정보

모델명	AMPHOS 200	제작사	Amphos
취득일자	2017-05-19	취득금액	470,538,380원
5대 미래산업 분류	UAM,반도체,헬스케어	활용용도	시험
표준분류	광학/전자영상장비 > 광파발생/측정장비 > 레이저발생장비
장비위치	대구광역시 동구 동내로 70 경북대학교 산학협력단　 3D융합지원센터 B1 레이저실험실
장비설명	- 본 레이저 장비는 고출력, 고반복률 극초단 펄스 레이저로, 높은 평균출력, 높은 펄스에너지, 높은 첨두출력(Peak Power)을 가지며, 버스트 모드(Burst Mode 및 Pulse on Demand)기능이 탑재되어 매우 정교한 레이저 가공 시험을 지원할 수 있음 - 본 레이저 장비는 레이저 크리스탈 매질에 펌프광을 공급하고 이를 증폭하여 높은 레이저 출력을 제공할 수 있으며, Optical Isolator, Optical Modulator, EO pulse picker/modulator 등을 포함하는 시스템으로 구성이 됨 - PC 소프트웨어를 제어하여 펄스폭(Pulse time duration), 반복률(Repetition rate), 펄스에너지(Pulse energy 또는 Pulse Power) 등의 레이저 파라미터의 조절이 가능
구성 및 기능	- 파장(Wavelength) : 1030 nm - 펄스시간주기(Pulse time duration) : 최소 900fs ~ 10ps - 평균출력(Average Output Power) : 100W 이상 - 펄스반복률(Repetition rate) : 400kHz ~ 1MHz - 버스트모드(Burst mode)기능 : 최소 50 pulse를 1 버스트로 제어 출력가능 - 빔품질(Beam quality: M2) : 1.5 미만 - 펄스에너지(Pulse Energy) : 200 uJ 이상
사용/활용예	- 높은 펄스에너지 및 펄스 반복률을 가진 펨토초 장비로, 레이저 응용 기초 연구부터 대량생산을 위한 제품의 초기 양산화 기술 개발 등 다양한 영역에서의 활용 - 고출력 레이저를 활용하여 의료 및 산업분야 신소재와 부품들의 초고속 미세가공과 생산기술 개발에 활용 - Pulse duration, Repetition rate, Power 가변으로 생산성과 더불어 다양한 변수 조건으로 인한 연구목적에 활용
이용안내
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