26.03 도입

장비 설명

○ X-선을 연속적으로 방사하여 몸을 투과시키면서 그 결과를 모니터를 통해 동영상처럼 관찰하거나 사진 촬영을 하는 검사를 말하며, 방사선 발생장치, X-선 튜브, 디텍터, 조정 패널, 디스플레이 모니터로 구성됨
○ 인두, 후두, 기관, 기관지 등 몸속에 실시간으로 움직이는 장기들의 움직임을 평가하거나, X-선에서 투과가 잘되지 않는 조영제를 혈관, 경구, 혹은 요로계로 투여한 뒤 심혈관계, 소화기계, 비뇨기계의 움직임과 운동성을 평가하는 데 필수적임
○ 최근 난치성 질병에서 최소침습적인 치료법으로 주목받는 중재적 시술을 시행하기 위해 필수적인 장비이며 시술 중에 대상 병변 혹은 장기의 움직임, 혈관의 구조, 시술 기구의 위치 등을 평가할 수 있음
○ 혈관에 조영제를 투여한 후 subtraction 기법으로 주변 구조물을 영상화하지 않고 혈관 내 조영제의 이동만 간편하게 시각화할 수 있으며, 이러한 기술은 혈관을 통한 종양의 색전술과 같은 중재적 시술에 필수적임
○ 고주파 X선 발생장치와 flat panel 디텍터를 이용하며 빠른 영상 획득 속도를 가져 뛰어난 해상도를 가진 영상을 획득할 수 있고 높은 열용량과 빠른 냉각 속도로 열 축적이 최소화되어 장시간의 시술 및 연구를 할 수 있음
○ 해당 장비는 투시 검사를 이용하여 질병의 메커니즘 규명, 동물 환자 및 질병 모델에서 진단 알고리즘 정립, 난치성 질환에서 중재적 치료 솔루션의 개발과 치료반응 평가, 수술 시뮬레이션 및 중재적시술 전문인력 양성에 이용될 예정

26.02 도입

장비 설명

○ 곡면 LED 디스플레이 시스템은 대면·비대면 학습이 동시에 이루어지는 하이플렉스 강의 환경에서 교수자의 시각적 전달력을 극대화하기 위한 핵심 장비로 활용
○ 광시야각과 대형·몰입형 화면을 제공하여 실시간 판서, 자료 제시, 화상참가자 화면 등을 직관적으로 보여줄 수 있으며 곡면 구조로 인해 강의실 내 모든 좌석에서 균일한 시인성 확보 가능
○ 전공별 맞춤형 콘텐츠를 고품질로 제공하여 학습 몰입도를 높이고 실시간 원격교육 플랫폼과 연동하여 비대면 항생들의 참여도 향상
○ 대형 화면 기반으로 전문대학의 실습·실기 중심 수업에서 고해상도 영상 콘텐츠 제공으로 교원 및 학생이 공동으로 사용하는 실시간 협업형 교육 공간 구성에 기여

26.02 도입

장비 설명

컴퓨터학부 학생들의 인공지능, 딥러닝, 데이터 분석 및 고성능 컴퓨팅 교육을 지원하기 위해 구축된 GPU 기반 고성능 서버로, 대규모 병렬연산 및 실습 환경을 제공하는 교육·연구용 장비.

26.02 도입

장비 설명

컴퓨터학부 학생들의 인공지능, 딥러닝, 데이터 분석 및 고성능 컴퓨팅 교육을 지원하기 위해 구축된 GPU 기반 고성능 서버로, 대규모 병렬연산 및 실습 환경을 제공하는 교육·연구용 장비.

26.02 도입

장비 설명

본 장비는 컴퓨터학부 학생들의 시스템프로그래밍, 디지털설계및실험, 데이터베이스, 컴퓨터구조, 운영체제 등의 수업과 연구활동 지원을 위해 구축된 고성능 GPU 서버 시스템으로, 다중 GPU 기반 병렬연산 환경을 제공하여 대규모 연산 및 실습 교육을 수행할 수 있도록 구성된 교육·연구용 장비이다.

26.02 도입

장비 설명

열 분포 및 온도 변화 특성을 원격으로 측정·분석할 수 있는 열화상 카메라.
광각·줌·적외선 열화상 센서와 레이저 거리측정기, NIR 보조등이 통합된 다중 센서 기반 장비로, 환경·안전·건축·토목·기계·전기 등 다양한 분야의 연구 및 현장 데이터 수집에 활용 가능한 장비임로 안정적인 데이터 획득과 효율적인 연구 수행을 지원하는 연구용 장비.

26.02 도입

장비 설명

Keysight Technologies의 B1505A Power Device Analyzer는 고전력·고전류·고전압 반도체 소자의 정밀 전기적 특성 평가를 위한 계측 시스템으로, 최대 수 kV급 전압 인가와 fA 수준의 미세 전류 측정 및 수십 A급 고전류 인가가 가능하며, DC 및 펄스 I-V 특성, 항복전압(BV), 온저항(Rds(on)), 누설전류 등 다양한 전력반도체 특성 분석을 지원하여 Si, SiC, GaN 기반 소자의 연구 및 신뢰성 평가에 활용되는 장비입니다.

26.02 도입

장비 설명

정현파, 구형파, 삼각파 등 다양한 전기 신호를 생성하고 주파수, 진폭, 위상 및 변조 특성을 제어할 수 있는 함수발생기 장비. 듀얼 채널 기반으로 동기화된 신호 출력이 가능하며, 기본 파형 및 임의파형 생성 기능을 통해 전자회로 설계 검증, 신호 분석, 계측 실험 및 교육에 활용 가능한 장비.

26.02 도입

장비 설명

전기·전자 신호의 전압 변화를 시간축에 따라 측정·표시하고, 주파수·진폭·위상 및 시간 특성을 분석할 수 있는 오실로스코프 장비. 다채널 신호 측정이 가능하여 디지털 및 아날로그 회로의 동작 특성 분석, 회로 설계 검증, 신호 계측 및 교육·실험에 활용 가능한 장비.

26.02 도입

장비 설명

본 장비는 반도체 및 나노소자 연구에서 요구되는 다양한 박막 증착 공정을 통합적으로 수행할 수 있는 Multi Function Deposition System으로, RF/DC 마그네트론 스퍼터링과 Electron Beam(E-beam) 증착 방식을 하나의 시스템에서 운용할 수 있는 고정밀 진공 증착 장비이다.
본 장비는 금속, 산화물, 유전체 등 다양한 소재의 박막을 고균일도로 형성할 수 있으며, 초고진공 환경에서의 정밀 증착 공정을 통해 반도체 소자, MEMS 소자, 바이오센서, 에너지 소자 등 다양한 연구 분야에서 활용될 수 있다. 특히 다층 박막 구조 형성 및 공정 조건의 정밀 제어가 가능하여, 차세대 반도체 및 기능성 소재 연구에서 핵심적인 공정 장비로 활용된다. 본 장비는 최대 750℃까지 가열 가능한 기판 히터와 고진공 환경(5×10⁻⁷ Torr 이하)을 지원하여 박막의 결정성 및 밀착성을 향상시키며, 공정 조건에 따른 소재 특성 변화를 정밀하게 분석할 수 있도록 설계되어 있다. 또한 QCM 기반의 실시간 두께 모니터링 시스템을 통해 증착 속도와 두께를 정밀하게 제어할 수 있어 공정 재현성과 데이터 신뢰성을 확보할 수 있다. Loadlock 챔버와 자동 제어 시스템을 통해 시료의 오염을 최소화하면서 연속적인 공정 수행이 가능하며, 자동화된 제어 프로그램을 통해 증착 공정의 레시피 관리 및 데이터 저장이 가능하다.